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HRD-NH3-2000型抽取式激光逃逸氨在線監(jiān)測系統(tǒng)采用高溫伴熱抽取技術，對工業(yè)過程中的氣體進行連續(xù)在線監(jiān)測,系統(tǒng)由取樣及傳輸單元、預處理及控制單元、分析單元三部分構成，主要應用于眾多工業(yè)領域氣體排放監(jiān)測和過程控制，例如:燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠、玻璃廠等。
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HRD-NH3-2000型激光逃逸氨在線監(jiān)測系統(tǒng)采用高溫伴熱抽取技術，對工業(yè)過程中的氣體進行連續(xù)在線監(jiān)測,系統(tǒng)由取樣及傳輸單元、預處理及控制單元、分析單元三部分構成，主要應用于眾多工業(yè)領域氣體排放監(jiān)測和過程控制，例如:燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠、玻璃廠等。
分析儀采用了可調(diào)諧激光吸收光譜技術（Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy，簡稱TDLAS）的原理，可測量過程氣體成分中的特定氣體的濃度，包括NH3、H2S、HCL、HF等。該系統(tǒng)具有靈敏度高、響應速度快、不受背景氣體干擾、非接觸式光學測量等特點，為實時準確地反映逃逸氨的變化提供了可靠保證。
可調(diào)諧半導體激光吸收光譜技術（TDLAS）本質(zhì)上是一種光譜吸收分析技術，利用了氣體分子對特定波長激光的選擇性吸收特點，分析激光吸收光強的變化來獲得氣體的濃度。它與傳統(tǒng)紅外光譜吸收技術的不同之處在于，半導體激光光譜寬度遠小于氣體吸收譜線的展寬（如圖1）。因此，半導體激光吸收光譜技術是一種高分辨率的光譜吸收技術。
（圖1）可調(diào)諧半導體激光吸收光譜技術原理
01. 采用熱濕取樣方法，不受現(xiàn)場安裝條件的限制，適用性廣，使用和維護簡單；
02. 采用TDLAS的高分辨率光譜技術，測量時不受其它氣體的干擾，可有效降低粉塵或背景氣體的干擾，這一特性與其它分析方法相比有明顯的優(yōu)勢；
03. 系統(tǒng)具有響應速度快，靈敏度高的優(yōu)點。實際應用中其分辨率可以達到0.1ppm，可滿足工業(yè)系統(tǒng)的控制要求；
| 性能參數(shù) | |||||||||
| 氣體 | 檢測量程*(可定制) | 分辨率* | 重復性 | 線性度 | 響應時間 | 漂移 | |||
| NH3 | 0-20 ppm vol | 0.1ppm | ≤2%FS | ≤2%FS | ≤10S | ≤2%FS | |||
| 功能參數(shù) | |||||||||
| 預熱 | 120min | 數(shù)字輸出 | RS232 | 模擬輸出 | 4-20mA最大負載500Ω | ||||
| 電源 | AC200-240V/47-63Hz3kW | 繼電器輸出 | 負載能力：AC/DC 24V/1A；濃度超限報警、透過率異常報警、激光器溫度異常報警等（可定制） | ||||||
| 環(huán)境參數(shù) | |||||||||
| 光程 | 0.1~5米 (依量程變更) | 樣氣溫度 | ≤600℃ | 樣氣壓力 | 大氣壓±5kPa | ||||
| 采樣流量 | 2-3L/min | 環(huán)境溫度 | -10~55℃ | 環(huán)境壓力 | 70kPa-120kPa | ||||
| 吹掃氣源 | 0.4~0.6MPa壓縮空氣 | 防護等級 | IP65 | ||||||
| 外形尺寸 | 1160mm×800mm×260mm | 重量 | 150kg | ||||||
儀表檢測量程可根據(jù)客戶要求定制，分辨率亦會隨之變化
● 對于SCR脫硝裝置，取樣點一般選擇在SCR出口后10米內(nèi)管段；對于SNCR脫硝裝置，取樣點一般選擇在噴氨點下游大于15米處。
● 取樣點煙氣溫度一般在300-600℃之間。
● 應盡可能選擇在直管段，不宜選擇在彎頭或變徑等處。
● 在工藝管道上開孔，開孔尺寸80mm，將預裝法蘭套件焊接在工藝管道上。
● 探頭應垂直安裝于煙道上方或安裝于管道側(cè)壁，安裝于管道側(cè)壁時，預裝法蘭套件應略向上傾斜3-5度，避免煙道中的液體倒流入伴熱管。
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